超高分辨多靶材離子濺射儀，電鏡放大倍率可到300K也不會看到鍍膜顆粒，非常適合于現階段超高分辨場發(fā)射電鏡或雙束電鏡，電子探針等，如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等， 日立電鏡的SU80000， SU8200, S4800， 9000系列等， 日本電子 7600F, 7800F等， 蔡司的Merlin, Ultra, Gemini, Auriga系列等。

為了答謝廣大中國電鏡工作者對于英國Cressington產品信賴和支持，以及對于溢鑫科創(chuàng)工作的配合和支持，我司和英國原廠特舉辦回饋優(yōu)惠活動：購置超高分辨208HR鍍膜系統，將贈送超高分辨膜厚監(jiān)控儀MTM-20以及高性能旋轉傾斜樣品臺。

• 磁控冷態(tài)噴鍍

  有冷態(tài)鍍膜設計使用真正的“平衡磁控管”沒有等離子體電流在樣品，在得到高分辨非晶鍍膜層同時避免樣品受到熱損傷，對熱損傷或輻照損傷敏感樣品尤為適合

• 廣泛的鍍層靶材選擇

  特殊雙極磁控管頭設計和有效的氣體離子處理使得208HR擁有廣泛多種鍍層靶材選擇

• 全自動化設計

  自動的換氣與泄氣功能，濺射電流和電壓通過磁控頭的傳感線監(jiān)控，蒸發(fā)源作為反饋回路中的一部分被控制保證了均勻*的膜厚，和良好的導電噴鍍效果。

• 超高精度膜厚監(jiān)控設計

  使用可選MTM-20全自動高分辨膜厚監(jiān)控儀可優(yōu)化設計鍍膜條件達到0.1nm膜厚可控效果

• 多用途樣品托設計

  獨立的旋轉，水平和傾斜 3軸移動設計優(yōu)化了多樣品以及不規(guī)則樣品的均勻一直鍍膜

• 可變的樣品室?guī)缀卧O計

  為了優(yōu)化鍍層結構樣品室?guī)缀卧O計可用于調整噴鍍速度從1.0納米每秒到0.002納米每秒

• 廣泛的操作氣體壓力

  獨立的電壓，電流以及壓力回路控制系統允許可操作氬氣壓力從0.2-0.005mbar真空度

• 緊湊型時尚桌面式設計

  節(jié)能，緊湊設計消除了對于樓層空間要求，水要求和專業(yè)電氣連接要求

鍍膜不同多樣樣品

超高分辨208HR鍍膜系統現在針對噴鍍不同電鏡樣品提供了較理想的解決方案。為了減小噴鍍晶粒尺寸影響，208HR提供一套全系列的鍍膜靶材材料和*的膜厚鍍層控制條件。為了更小優(yōu)化充電效果，208HR的特殊樣品臺設計和大范圍的操作壓力提供了高精度的鍍膜*性和統一性。 高低樣品室的配置也提供了更為方便的工作距離調整。

可調式旋轉傾斜水平樣品臺           超高分辨全自動膜厚監(jiān)控儀 MTM-20

208HR超高分辨鍍膜儀技術規(guī)格：

樣品倉尺寸： 150mm 直徑， 三個高度可調，適用高度不同樣品，高強度硼硅酸鹽玻璃

濺射管頭：低電壓平面磁控管，靶材更換快速，環(huán)繞暗區(qū)護罩

噴鍍靶材：鉻，鉑/鈀 標配， 金，鎢，銅，鋁，銥，銀等選配，其他材料按客戶需求提供

濺鍍優(yōu)點：基于微處理器反饋控制，遠程電流/電壓感應；提供真空安全聯鎖裝置，大180A，配有過流保護，數字化可選電流（20，40，60 或80毫安）

樣品臺：可放置12個標準EM樣品座，0到90度傾斜可調的旋轉水平樣品臺

模擬計量：真空 Atm - 0.001mb  電流: 0 – 80mA

控制方式： 全自動噴鍍控制，自動卸真空自動進氣功能，使用可編程電壓控制和計時數字計時 (0 – 300秒)以及暫停設計；全自動真空監(jiān)測系統

真空系統： 標配無油分子泵真空以及機械泵真空系統，泵抽速達到每秒70L，1.5分鐘內抽到真空度到1 x 10-4 mbar,  極限真空優(yōu)于5 x 10-6 mbar，附帶減震臺的桌面式真空泵設計，全金屬耦合系統

全自動超高分辨膜厚監(jiān)控儀技術規(guī)格：

MTM-20 基于微處理控制，4位顯示系統，6MHZ晶體監(jiān)探器，每秒5次實時監(jiān)控 MTM-20

膜厚監(jiān)控范圍： 0到999.9納米

分辨率： 優(yōu)于0.1納米

密度范圍：0.50到30.00gm/cm3

安裝環(huán)境要求：

電源：200-240 VAC, 50/60Hz

功率：550VA

氬氣要求：99.99% 純氬氣，壓力設定0.5/0.6 bar, 6.0mm管路接口

設備尺寸：寬600mm， 深600mm，高450mm, 重量40kG