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Microtrac納米粒度分析儀

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美國Microtrac公司的S3500系列激光粒度分析儀,原理上采用經(jīng)典靜態(tài)光散射技術和全程米氏理論處理,利用現(xiàn)代模塊式設計理念,使用獲得的三激光光源技術,配備超大角度雙鏡頭檢測系統(tǒng),以對數(shù)方式排列151個高靈敏度檢測單元,無需掃描,平行通道實時接受散射光信息,提供準確可靠的測量信息。多種分散方式可選,干法與濕法測量之間的轉換,系統(tǒng)自動識別,方便快捷。

詳細信息 在線詢價

公司介紹:

美國麥奇克有限公司(Microtrac Inc.)是世界上的激光應用技術研究和制造廠商,其的激光粒度分析儀已廣泛應用于水泥,磨料,冶金,制藥,石油,石化,陶瓷,等領域,并成為眾多行業(yè)*的質量檢測和控制的分析儀器。Microtrac Inc.公司非常注重技術創(chuàng)新,近半個世紀以來,一直有著激光粒度分析的前沿技術,可靠的產(chǎn)品和強大的應用支持及完善的售后服務,使得其不斷超越自我,推陳出新,。

 

儀器簡介:

納米粒度測量——的動態(tài)光背散射技術

隨著顆粒粒徑的減小,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低,使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術的自相關檢測(PCS)變得更加不確定。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術在顆粒粒度測量中的應用。作為行業(yè)的先鋒,早在1990年,超細顆粒分析儀器 UPA(UltrafineParticle Analyzer)研發(fā)成功,*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運動而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念,快速準確地得到被測體系的納米粒度分布。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(HeterodyneDoppler Frequency Shifts)技術,結合動態(tài)光散射理論和的數(shù)學處理模型,NPA150/250將分析范圍延伸至0.3nm-10μm,樣品濃度更可高達百分之四十,基本實現(xiàn)樣品的原位檢測。異相多普勒頻移技術采用可控參考穩(wěn)定頻率,直接比照因顆粒的布朗運動而產(chǎn)生的頻率漂移,綜合考慮被測體系的實時溫度和粘度,較之于傳統(tǒng)的自相關技術,信號強度高出幾個數(shù)量級。另外,新型“Y”型梯度光纖探針的使用,實現(xiàn)了對樣品的直接測量,極大的減少了背景噪音,提高了儀器的分辨率。

 

測量原理:

粒度測量:動態(tài)光背散射技術和全量程米氏理論處理

分子量測量:水力直徑或德拜曲線

 

光學系統(tǒng):

3mW780nm半導體固定位置激光器,通過梯度步進光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號,無需校正光路

 

軟件系統(tǒng):

的Microtrac FLEX軟件提供強大的數(shù)據(jù)處理能力,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入,個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù),Microsoft Access格式(OLE)等。體積,數(shù)量,面積及光強分布,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求,包括口令保護,電子簽名和*等。

 

外部環(huán)境:

電源要求:90-240VAC,5A,50/60Hz

環(huán)境要求:溫度,10-35°C

標準:符合ISO13321,ISO13099-2:2012 和 ISO22412:2008

 

主要特點:

• 采用的動態(tài)光散射技術,引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關光譜法

• 異相多譜勒頻移技術,較之傳統(tǒng)的方法,獲得光信號強度高出幾個數(shù)量級,提高分析結果的可靠性。

• 可控參比方法(CRM),能精細分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度。

• 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設計,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。

• 快速傅利葉變換算法(FFT,F(xiàn)ast FourierTransform Algorithm Method),迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間。

• 膜電極設計,避免產(chǎn)生熱效應,能準確測量顆粒電泳速度。

• 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾,諸如光路中不同光學元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差,比色皿器壁的折射與污染,分散介質的影響,多重散射的衰減等,提高靈敏度。

 


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