一、公司介紹
光電技術(shù)研究所始建于1970年，坐落在四川省成都市南郊，是在西南地區(qū)大的研究所，定位于科研基地型研究所之一。
微光學(xué)與微電子光學(xué)裝備技術(shù)研究是光電技術(shù)研究所的重點(diǎn)發(fā)展學(xué)科之一，設(shè)有“微電子專用設(shè)備研制總體研究室”與“做細(xì)加工光學(xué)技術(shù)國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室”。五十多年來，一直致力于微電子光學(xué)與微細(xì)加工光學(xué)裝備的技術(shù)攻關(guān)與研制，不僅擁有一支總體設(shè)計水平高，光、機(jī)、電配套，經(jīng)驗(yàn)豐富的科研隊(duì)伍，還有一支實(shí)力雄厚的試制加工、工藝和測試力量，為研發(fā)生產(chǎn)和拓展微電子技術(shù)裝備定了堅實(shí)的基礎(chǔ)。曾先后園滿完成了國家科技重大專項(xiàng)、國家973、國家863、自然科學(xué)基金、國的多項(xiàng)重大科技項(xiàng)目的攻關(guān)與研制，在我國微電子裝備的研制與微細(xì)加工技術(shù)攻關(guān)與創(chuàng)新等方面，取得了包括國家科技進(jìn)步獎在內(nèi)的多項(xiàng)豐碩成果。目前，在知識創(chuàng)新工程機(jī)制的激勵下，一支以中青年博士、碩士為主體的攻關(guān)與研發(fā)技術(shù)骨干隊(duì)伍正在充分發(fā)揮技術(shù)帶頭人和創(chuàng)新、創(chuàng)業(yè)人才的作用，在發(fā)展我國微電子裝備技術(shù)與研發(fā)中做出新的貢獻(xiàn)。
近年創(chuàng)新研發(fā)的具有自主知識產(chǎn)權(quán)的URE2000型系列單雙面外光刻機(jī)、無模數(shù)字光機(jī)、納米壓印光刻機(jī)、投影光刻機(jī)等特色的微細(xì)加工光學(xué)裝備，以其突出的功能、可掌地品質(zhì)、的技術(shù)和優(yōu)質(zhì)的服務(wù)，受到國內(nèi)外眾多用戶的青睞,在微細(xì)加工技術(shù)科學(xué)領(lǐng)域受到廣泛好評。面對新的發(fā)展,我們將以“團(tuán)結(jié)、誠信、進(jìn)取、創(chuàng)新”之理念，開拓進(jìn)取力創(chuàng)輝煌，歡迎各界朋友精誠合作，攜手共進(jìn)，協(xié)力發(fā)展，共創(chuàng)未來。
二、URE-2000系列紫外光刻機(jī)技術(shù)指標(biāo)
l 光源類型： LED光源
l 曝光面積：160 mm×160 mm
l 曝光波長：365 nm：≥30 mW/cm2，光強(qiáng)數(shù)字連續(xù)可調(diào)
l 分辨力：1 μm
l 對準(zhǔn)精度：±1 μm（單面），±2 mm（雙面，片厚0.8mm）
l 掩模尺寸： 2.5英寸、3英寸、4英寸、5英寸、7英寸
l 樣片尺寸： 樣片尺寸：直徑f10mm-- f150mm(各種不規(guī)則片)，厚度可適應(yīng)0.1mm--2mm
l 曝光方式：定時（倒計時方式0.1s-999.9s任意設(shè)定）
l 調(diào)平接觸壓力通過傳感器保證重復(fù)
l 數(shù)字設(shè)定對準(zhǔn)間隙和曝光間隙
l 正面雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過CCD+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)倍數(shù)400倍，光學(xué)+電子放大800倍，物鏡三對：4倍、10倍、20倍，目鏡三對：10倍、16倍、20倍
l 底面面對準(zhǔn)：采用雙顯微物鏡+CCD+采集卡+計算機(jī)合像，物鏡軸距范圍10mm-140mm
l 具備真空接觸曝光、硬接觸曝光、壓力接觸曝光，以及接近式曝光四種功能
l 照明不均勻性：±2%（Ф100 mm 范圍），±3%（Ф150 mm 范圍）
l 掩模相對于樣片運(yùn)動行程：
X：優(yōu)于±5mm; Y：優(yōu)于±5mm; q：優(yōu)于±6°
l 光源平行性：≤2.5°
2．外形尺寸：約1400mm（長）′1200mm(寬) ′2000mm（高）
