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離子濺射儀

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SD-900型離子濺射儀是采用二級(DC)直流濺射原理設計而成的離子濺射鍍膜設備

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SD-900型離子濺射儀是采用二級(DC)直流濺射原理設計而成的離子濺射鍍膜設備。二極(DC)直流濺射是一種、可靠、經(jīng)濟的鍍膜技術,是許多廠商提供的離子濺射儀的基礎。

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V技術規(guī)格說明

樣品倉尺寸

  φ150mm  h120mm

樣品臺

  可放置1 2 個標準SEM樣品座,高度可在
  30mm內(nèi)調(diào)節(jié)

上部電極     

  靶直徑5 0 mm,厚度0 .1mm

濺射控制

  電流5 0mA

濺射面積

  φ5 0mm

真空度

  ≤4×10-2mbar

靶材

  金靶、銀靶、 鉑靶

濺射速率

  優(yōu)于5nm/min (金靶)

工作電壓

  220V, 50HZ

輸出電壓

  -1600V



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