ECLIPSE 顯微鏡機(jī)身采用模塊化制造，可滿足多領(lǐng)域的工業(yè)應(yīng)用，其中包括半導(dǎo)體器件、封裝、FPD、電子器件、材料和精密模具制造等。ECLIPSE LV 系列經(jīng)過不斷的發(fā)展完善并配備了新的光學(xué)系統(tǒng)和功能，可根據(jù)觀察方法和目的 選擇支架裝置和照明裝置以滿足多種觀察需求。用戶可選擇使用電動和手動操控模式以及反射照明專用模式和反射／透射組合照明模式以滿足任何應(yīng)用需求。

特點：
CFI60-2 經(jīng)過改進(jìn)的光學(xué)性能
以的高數(shù)值孔徑和長工作距離設(shè)計理念而著稱的尼康 CFI60 光學(xué)系統(tǒng)。
經(jīng)過進(jìn)一步改進(jìn)，具有的長工作距離、色差校正性能和更輕的重量。
輕松的操作 與數(shù)碼相機(jī)集成

現(xiàn)可使用數(shù)碼控制裝置來檢測包括物鏡信息在內(nèi)的顯微鏡信息，以及對顯微鏡進(jìn)行電動操作，以更高效地進(jìn)行觀察和圖像拍攝。

觀察方法
可支持多種觀察方法：明場、暗場、偏光、微分干涉、落射熒光和雙光束干涉測量觀察功能。此外，LV100DA和LV100DA-U還可提供透射型微分干涉、暗場、偏光和相襯觀察功能。

半導(dǎo)體（IC晶片）

從物鏡到照明系統(tǒng)，LV-N系列采取了的防眩光措施，確保生成明亮、高對比度的圖像。

采用尼康設(shè)計理念開發(fā)的物鏡暗場照明系統(tǒng)可實現(xiàn)明亮的暗場觀察，從而可對標(biāo)本差異和缺陷進(jìn)行高靈敏度的檢測。

基板（焊點）

LV-N系列在觀察有機(jī)EL或安裝的基板等具有熒光性質(zhì)的標(biāo)本時表現(xiàn)出了的性能。

礦物質(zhì)

LV-N系列十分適合觀察具有雙折射性質(zhì)的標(biāo)本，例如：容易失真的液晶或塑料/玻璃等。

云母

LV-N系列可使用Michelson(TI)和Mirau(DI)反射型雙光束干涉測量法。當(dāng)配合使用測微計目鏡時，可在不接觸標(biāo)本的情況下檢測和測量標(biāo)本的細(xì)微差異。

LCD（彩色濾光片）

LV-N系列十分適合觀察透明標(biāo)本，例如：光學(xué)器件、FPD和載玻片標(biāo)本。當(dāng)配合使用C-SP簡易起偏器和檢偏器時，可進(jìn)行透射型簡易偏光觀察。

感光乳劑

可通過明/暗對比和利用衍射和干涉兩種光線屬性來顯現(xiàn)無色、透明的標(biāo)本。

納米粒子（銀）

可利用偏光使兩束光之間產(chǎn)生干涉以在三維空間中觀察無色、透明的標(biāo)本。

LV100DA