超高速Omega掃描方法比Theta掃描方法快200倍自動評估三維完整的晶格方向在5秒內(nèi)測定整個晶體的方位緊湊

超高速Omega掃描方法

• 比Theta掃描方法快200倍

• 自動評估三維完整的晶格方向

• 在5秒內(nèi)測定整個晶體的方位

緊湊，用戶友好和成本效益

• 易于移動和輕量級的桌面設計

• 樣品處理方便，操作方便

• 空氣冷卻x射線管能耗低，運行成本低(無需水冷)

有效的質(zhì)量控制流程

• 用于標準研究和工業(yè)工作流程

• 晶體方位設定及標示

• 預編程立方晶體參數(shù)

• 方便的軟件

• 精度高，例如高至(1/100)°

控制切割、研磨和拋光

• 單晶的晶格取向

• 適用于各種尺寸和重量范圍大的材料，如：2-12英寸的晶圓片和20公斤以下的晶錠

• 確定單晶的晶格取向

• 使用Omega掃描方法的超高速晶體定位測量

• 立方晶體任意未知取向的測定

• 特別設計用于點陣方向的方位設置和標記

• 氣冷式x射線管，無需水冷

• 適合于研究和生產(chǎn)質(zhì)量控制

技術(shù)參數(shù)

可測量材料的例子

• 立方/任意未知方向：Si, Ge, GaAs, GaP, InP                 所有想要的晶體方向參數(shù)                   在5秒內(nèi)一次旋轉(zhuǎn)中被捕獲

• 立方/特殊取向：Ag, Au, Ni, Pt, GaSb, InAs, InSb, AlSb, ZnTe, CdTe, SiC₃C, PbS, PbTe, SnTe, MgO, LiF, MgAl₂O₄, SrTiO₃, LaTiO₃

• 正方：MgF₂, TiO₂, SrLaAlO₄

• 六方/三角：SiC 2H, 4H, 6H, 15R, GaN, ZnO, LiNbO₃, SiO₂(石英)，Al₂O₃(藍寶石)，GaPO₄, La₃Ga₅SiO₁₄

• 斜方晶系：Mg₂SiO₄ NdGaO₃

• 可根據(jù)客戶的要求進一步選料

Omega掃描能夠在一次測量中確定完整的晶體方位。因此，平面方向可以直接識別。這是一個有用的功能，以標記在平面方向或檢查方向的單位或缺口。

在晶圓片的注入和光刻過程中，平面或凹槽作為定位標記。經(jīng)過加工后，晶圓片攜帶數(shù)百個芯片，需要通過切割將其分離。

晶片必須正確地對準晶圓片上易于切割的晶格面。因此，檢查平臺或缺口的位置是必要的。為了確定平面或缺口的位置，必須測量平面內(nèi)的部件。

該儀器通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤，可以將任何平面方向轉(zhuǎn)換成用戶的特定位置。這簡化了將標記應用到特定平面方向的任務，例如必須定義平面方向時。

對于高吞吐量應用程序，可提供自動測量解決方案。