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透射電鏡Talos F200X

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具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 上海瓦克儀器有限公司
品牌
型號
所在地 上海市
廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2024/3/11 23:21:40
訪問次數(shù) 42

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促銷詳細(xì)：

2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

FEITalosF200X融合了高分辨率掃描/透射電子顯微鏡(STEM)和TEM成像功能與能量色散X射線光譜儀(EDS)信號檢測功能及基于成分測繪的三維化學(xué)表征功能

詳細(xì)信息在線詢價

FEI Talos F200X融合了高分辨率掃描/透射電子顯微鏡 (STEM) 和 TEM 成像功能與能量色散 X 射線光譜儀 (EDS) 信號檢測功能及基于成分測繪的三維化學(xué)表征功能。Talos F200X可在所有維度 (1D-4D) 下實現(xiàn)快速的 EDS 分析，以及支持快速導(dǎo)航的動態(tài)顯微鏡 HRTEM 成像。

Talos F200S在STEM成像上具有多功能性和高的通量。與此同時，F(xiàn)EI Talos F200S還提供高的穩(wěn)定性和長的正常運(yùn)行時間。

基本參數(shù)：
明場X-FEG：1.8×109 A/cm2 srad（@200kV）
總束電流：>50nA
探針電流：2nA@1nm探針（200 kV）；0.4 nA@0.31nm探針
EDS系統(tǒng)：2 SDD無窗設(shè)計，shutter保護(hù)
能量分辨率：≤136 eV，對Mn-Kalpha和10kcps（輸出）
快速EDS：像素駐留時間低至10 us除了這些基本特性外，本中心的Talos還裝備：
1、Ceta 4K*4K 相機(jī)；
2、用于STEM模式的環(huán)形暗場探頭（HAADF）以及BF/DF探頭；
3、Gatan 626冷凍傳輸樣品桿，單傾樣品桿以及三維重構(gòu)樣品桿；
4、單顆粒技術(shù)自動化數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)EPU和電子斷層掃描技術(shù)自動化數(shù)據(jù)收集軟件Xplore3D。

Talos可以滿足冷凍單顆粒技術(shù)、冷凍電子斷層掃描技術(shù)、STEM電子斷層掃描技術(shù)的數(shù)據(jù)收集需求，如：

1、進(jìn)行液氮溫度的冷凍樣品數(shù)據(jù)收集；

2、可進(jìn)行單顆粒樣品數(shù)據(jù)收集；