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上海伯東代理美國 KRI 霍爾離子源 eH200

參考價	￥300000-￥600000

具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌
型號
所在地 上海市
廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
更新時間 2023/1/5 14:43:17
訪問次數(shù) 535

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化，降低對人的依賴。

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上海伯東代理美國進口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡單是理想的生產(chǎn)工具.

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KRI 霍爾離子源 eH 200
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KRI 霍爾離子源 eH 200 技術(shù)參數(shù)：

型號	eH 200
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	40-300V VDC
- 離子源直徑	~ 2 cm
- 陽極結(jié)構(gòu)	模塊化
電源控制	eHx-3005A
配置	-
- 陰極中和器	Filament or Hollow Cathode
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved
- 水冷	無
- 底座	移動或快接法蘭
- 高度	2.0'
- 直徑	2.5'
-加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
-工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	6-24”
- 自動控制	控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Filamentless; Sidewinder

KRI 霍爾離子源 eH 200 應(yīng)用領(lǐng)域：
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD

若您需要進一步的了解 KRI 射頻離子源, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式

上海伯東: 羅先生

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