>> 儀器介紹
廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工等領域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗，可用于Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、Sn、Ag等多種金屬及其合金樣品分析，穩(wěn)定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、方便維護、抗*力強。

光電直讀光譜儀 Labspark1000 儀器參數(shù)  

帕邢—龍格架法，高發(fā)光全息光柵。

光柵焦距750mm，刻線為2400條/mm，譜線范圍：120-800nm。

色散率：一級色散率：0.55nm/mm，二級色散率：0.275nm/mm。

分辨率：優(yōu)于0.01nm。

整體出射狹縫調(diào)試方便、快捷、便于用戶增加更改通道，節(jié)約成本。

光柵、光電倍增管等核心部件全部進口。

真空度由真空泵和真空控制設備控制。

鑄造光室，熱膨脹系數(shù)低，保證真空度的要求。

光電直讀光譜儀 Labspark1000 其他參數(shù)  

采用納克公司*的金屬原位分析儀的核心關鍵技術—單次放電采集解析技術（Single Discharge  Analysis，SDA）。

世界*的多通道同步描跡提高儀器穩(wěn)定性。

延時積分技術，*、世界，不同的通道采用不同的積分起始時間。

內(nèi)部恒溫系統(tǒng)，不同的部位采用不同的恒溫條件，大大的減少了外部環(huán)境變化對儀器的影響（控制精度±0.1℃）。

連續(xù)可調(diào)光源，對不同的材質(zhì)可以匹配不同的光源實現(xiàn)*的分析結果。

模塊化的電路設計，維修方便快捷，為遠程診斷做好了準備。

軟件可調(diào)獨立高精度負高壓模塊，負高壓精度＜0.05% 。

負高壓可由分析程序控制，提高分析程序的分析精度，擴展元素的分析范圍。

光電直讀光譜儀 Labspark1000 儀器特點  

激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調(diào)全數(shù)字固態(tài)光源，適應各種不同材料。

*的恒溫式火花臺設計，環(huán)狀氬氣流方式，保證連續(xù)激發(fā)狀態(tài)下儀器的穩(wěn)定性，避免使用水冷帶來的不利影響。

安全防護設備阻止不安全激發(fā)。

銅基座火花臺，火花臺易于拆卸，便于清潔。

帶有特殊配件，易于檢測多種形狀的分析對象（餅狀、棒狀、線狀）。

一體式透鏡隔離閥，可防止因日常維護導致的光室污染影響強度下降，透鏡易于更換。

放電室設計*，保證放電在*條件下進行。

激發(fā)電極為鎢電極。