Ultra-100清潔和單分子層成膜機集成了清潔和單分子層氣態(tài)成膜功能與一體，可以用于納米壓印模具和基板提供單分子層分辨能力的成膜和清潔任務，也可以廣泛用于其他需要真空，紫外，加熱，成膜的各種應用，諸如光刻模具的清潔和成膜處理等。

Ultra-100集成了真空，紫外O-Zone清潔，紫外聚合，單分子層氣態(tài)成膜等能力與一體，可以選擇單一或多元化學氣體，只要按一個操作按鈕，Ultra-100就可以全自動運作。Ultra-100的桌面設計非常簡潔，性能可靠穩(wěn)定。

主要特點：

集成真空，紫外，加熱，單分子層成膜多功能于一體，集成清潔和單分子層成膜于一鍵操作，杰出的膜覆蓋能力及均勻性，優(yōu)異的清潔能力，適合各種大小的基板和模板

§1″, 2″, 3”, 4”, 6”or 8″

§各種尺寸及不規(guī)則形狀模板與基板均可

全自動化程序控制操作

可接多種化學氣體

單分子層氣體成膜高分辨率

快速工藝循環(huán)時間

*的用戶靈活性

緊湊臺式設計

性價比

基于超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗的自動化操作

Nanonex系統(tǒng)經(jīng)過大量實時實地驗證，質量可靠，性能*穩(wěn)定

系統(tǒng)參數(shù)

尺寸

§樣品尺寸：上限是8”x8”

§腔體尺寸：10”x10”x5.75”

§全部機器尺寸：27”x21”x8.75”

典型基板

§硅和氧化硅

§砷化鎵（GaAs）

§磷化銦（InP)

§玻璃，石英，熔石英

§金屬

§陶瓷材料

氣體，紫外Ozone和加熱

§真空：< 100 mTorr

§多4個氣體接口可用于單分子氣體鍍膜

§2”直徑排氣管

§紫外燈波長：185納米，254納米，365納米，436納米

§紫外光功率：250瓦

§紫外光強度：> 10mW/cm2 (254nm波長）

§基板加熱能力：700瓦，大溫度175攝氏度