產(chǎn)品介紹
儀器簡介：
RHEED-反射式高能電子衍射儀是觀察晶體生長重要的實時監(jiān)測工具之一。它可以通過非常小的掠射角將能量為10～30KeV的單能電子掠射到晶體表面，通過衍射斑點獲得薄膜厚度，組分以及晶體生長機(jī)制等重要信息。 因此反射高能電子衍射儀已成為MBE、PLD等系統(tǒng)中監(jiān)測薄膜表面形貌的一種標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)。
R-DEC公司生產(chǎn)的反射高能電子衍射儀，以便于操作者使用的人性化設(shè)計，穩(wěn)定性和耐久性以及擁有高亮度的衍射斑點等特點，得到日本本土及其他國家各研究機(jī)構(gòu)的*好評和認(rèn)可。
RHEED-反射式高能電子衍射儀的特點：
可遠(yuǎn)程控制調(diào)節(jié)電壓，束流強(qiáng)度，聚焦位置以及光束偏轉(zhuǎn)
XY軸±5度電子束偏轉(zhuǎn)
高效熒光屏擁有高亮度衍射斑點
電子槍內(nèi)表面經(jīng)特殊處理，能實現(xiàn)極低放氣率
鎳鐵高導(dǎo)磁合金磁屏蔽罩（可選）
可搭載差動排氣系統(tǒng)用于低真空系統(tǒng)（可選）
負(fù)高壓電源安全閉鎖功能
經(jīng)久耐用，穩(wěn)定可靠
符合歐盟RoHS指令
kSA400分析軟件（可選）
規(guī)格：
30KeV 電子槍
30KeV 電子槍電源
反射高能電子衍射儀分析系統(tǒng)（kSA400 Leader in Analytical RHEED and LEED）
kSA400 分析軟件是較專業(yè)的RHEED分析系統(tǒng)，適合各種反射高能電子衍射儀和薄膜沉積系統(tǒng)，目前第四代系統(tǒng)結(jié)合優(yōu)質(zhì)的硬件和功能強(qiáng)大的軟件除了可以實時取得分析數(shù)據(jù)之外，還可實現(xiàn)實時晶格間距，原位應(yīng)力，實時薄膜沉積速率以及薄膜厚度的解析。為用戶提供較廣泛的RHEED分析信息。
RHEED應(yīng)用
RHEED可以廣泛應(yīng)用于MBE（分子束外延）, PLD（脈沖激光沉積）等其它需要實時監(jiān)測材料生長狀態(tài)的設(shè)備中。它將帶有晶體表面信息的反射束呈現(xiàn)于接收熒光屏上，通過圖像采集和解析軟件，對收集到的信息進(jìn)行分析，從而使用戶獲得薄膜厚度，組分以及晶體生長機(jī)制等重要信息。
